• 产品名称:光刻机巨头ASML给中国开绿灯:DUV随便九州酷游网
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  • 发布时间: 2021-08-12
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  在全球光刻机市场,日本的尼康、佳能,和荷兰的ASML,就占据了市场90%以上份额。而最高级的EUV(极紫外光)技术,则更是只有荷兰的ASML一家可以掌握。

  而这个底气是半导体巨头、全球光刻机领头企业荷兰的阿斯麦尔(ASML)给中国的。

  10月14日,ASML首席财务官罗杰达森(RogerDassen),对向中国出口光刻机的问题作出了表态。他表示:

  此外,从ASML的表态中也可得知,除了允许进口DUV光刻机外,并未提到更先进的EUV(极紫外)光刻机。

  “如果要解释一下美国的规定对ASML有什么影响的话,对于的中国客户,我们还是可以直接从荷兰向他们出口DUV光刻机,无需任何出口许可。”

  也就是说,美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限制其他国家对中国进口,荷兰并不在美国的禁令范围内。

  值得注意的是,当天也是ASML发布新一季度财报的日子,我们从其财报中也看到了ASML出口光刻机的一些原因。

  ASML第三季度财报显示,ASML当季总共销售60部光刻系统,净销售额为40亿欧元,净收入11亿欧元,毛利率达到了47.5%,营收攀升至39.58亿欧元,其中,中国占据21%的份额。

  前九个月销售业绩高达97.24亿欧元(约合人民币770亿元),同比大增近25%。其中,来自高端EUV光刻机的收入占比达到了总收入的66%。

  此外,ASML还十分看好中国市场。海关总署数据显示,今年1-8月,我国累计进口了3334.6亿美元的集成电路,同比大增22.5%。

  据南方新闻网报道,九州酷游网址在9月17日的中国集成电路制造年会上,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波透露,截至当前,中国已经实现了700多台ASML光刻机的装机,几乎所有芯片生产商都购买过该公司的服务。

  在第23届中国集成电路制造年会(CICD2020)暨广东集成电路产业发展论坛上,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波就表示:

  ASML在中国大陆成立第一个办公室迄今已有20年,从第一台光刻机开始,就是中国半导体行业的亲历者、见证者、和推动者。未来,ASML还将持续投入、扩大布局、培养人才,携手行业伙伴,和中国半导体产业实现共同发展。

  此外,资料显示,2000年,ASML在中国天津正式成立大陆地区的第一个办公室,迄今为止在中国大陆12个城市有办事处或分支机构,分别为天津、上海、北京、无锡、武汉、西安、大连、南京、厦门(晋江)、合肥、深圳、广州。

  可以说从一线城市到二三线城市都有ASML的布局。在中国受美方的打压下,ASML却在加速中国市场的布局。

  在他们看来,中国真正需要的是EUV光刻机,ASML这一做法并不能解燃眉之急,当务之急还是要自力更生。

  DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

  而EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星、英特尔的5nm产线就无法投产。

  事实上,早在今年3月,中芯国际就向ASML购买了一台大型光刻机,外界传言为EUV,但中芯国际也在此后证实并非外界传言的极紫外光刻机。

  根据的解释,一台光刻机由上万个部件组成,有人形容称这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。

  在全球范围内,光刻机市场几乎被3家厂商瓜分:荷兰的阿斯麦(ASML)、日本的尼康(Nikon)和佳能(Canon)。

  在这3家中,ASML又是当之无愧的一哥。据中银国际报告,阿斯麦全球市场市占率高达89%,其余两家的份额分别是8%和3%,加起来仅有11%。在EUV光刻机市场中,ASML的市占率则是100%。

  目前,中国芯片制造方面顶尖的中芯国际只有28纳米的生产工艺,14纳米工艺才刚刚开始量产,且中国芯片制造只能占到世界7.3%的份额。

  2019年4月,武汉光电国家研究中心甘棕松团队,采用二束激光,在自研的光刻胶上,突破光束衍射极限的限制,并使用远场光学的办法,光刻出最小9nm线年初,中科院对外宣称已经攻克了2nm工艺的难题,相关研究成果已经发布到国际微电子器件领域的期刊当中。

  5月19日,上海微电子装备(集团)股份有限公司称,其自研的高亮度LED步进投影光刻机,是中国首台面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品,已从1200多个申报项目中成功突围,入选“上海设计100+”。

  10月15日,南京集成电路产业服务中心副总经理吕会军向媒体证实中国将建立一所南京集成电路大学,专门培养实践型芯片研发人才,以加速芯片的国产化。

  诚然,中国在光刻机这条路上还有很长的路要走,但在经历了卡脖子的困境后,相信中国企业已经意识到自主研发的重要性,而美国长期的封锁和打压只会激发中国放弃侥幸,集中力量,让核心科技硬起来。

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